Eine Laudatio auf die Wirkungseffizienz des BABS-I-Komplexsystems,das war mir lange bekannt, hier die ausgesprochen elegante Beweisführung…SILIZIUM-NANOS sind nicht amagnetisch, sondern magnetisch,d.h. sie fungieren in den Zellen als NANO-CHIP, mit aufgeprägter Information & geblockt gegen Störfrequenzen ( Manipulation ),das ist einmalig in der Welt,wird nur durch Raubkopien versucht zu umgehen,mit sehr mieser Wirkung !!
Silizium ist unabdingbar für den Zellstoffwechsel, ohne Silizium geht absolut gar nichts…!
D.h.- jede Zelle bekommt das “ informierte & geblockte „ SILIZIUM in Form eines von mir entwickelten “ NANO-SHUTTLE-SYSTEMS „, eine geniale Lösung, Störungen von den Zellsystemen, vor allem im ZNS fernzuhalten und physiologische Frequenzen weiter zu vermitteln, sie werden in den kompletten Stoffwechsel eingebaut und geben die UR-FREQUENZ der ERDE an jede Zelle weiter !!
Das ist ANTISTRATEGIE als ANTWORT auf die MANIPULATION durch : HAARP,SMART und DIGITALISIERUNG, das BABS-I ist zentraler STEUERUNGS-PUNKT und in seinen VARIANTEN unendlich einsetzbar,mobil,Standard und als ABWEHR mit der Wirkung der WORONESH-Technologie….das ist einmalig und :
PRO VITAE, Für das LEBEN , universell einsetzbar, das sind Grundlagen von Tesla Grebennikow Tech Klitzke u.v.a., das ist
TGT = Tesla Grebennikow Tech – High Tech für das ÜBERLEBEN mit GEIST/klarem Verstand !!
Man kann es nicht oft genug wiederholen, denn die ” Sinne der Massen sind verschlossen,eben durch HAARP SMART & Digitalisierung der LEBENSRÄUME ohne Rückzugsgebiete ”
darum : ” Der letzte Meter gehört dem INDIVIDUUM ! ”
https://techseite.wordpress.com/2014/01/26/babs-i-ubersicht-patente/
BABS-I = Biophysical Anti-Brain Manipulation
System-Integration

LG, der Schöpfung verpflichtet, “ET” etech-48@gmx.de
Multi-Spitzen-Rastertunnelmikroskop
Neuer Wert für den Oberflächenwiderstand von Silizium
http://www.laborpraxis.vogel.de/wissenschaft-forschung/articles/499865/?cmp=nl-102

Silizium ist das mit Abstand am weitesten verbreitete Material in der Halbleiterindustrie. Doch seine elektronischen Eigenschaften sind immer noch nicht vollständig erforscht. An seiner Oberfläche leitet es den elektrischen Strom bis zu tausendmal besser als im Inneren. Wie gut genau, haben Jülicher Wissenschaftler nun mit bislang unerreichter Genauigkeit erfasst. Für ihre Messung der Oberflächenleitfähigkeit verwendeten sie ein speziell ausgerüstetes Rastertunnelmikroskop mit vier Spitzen.
Jülich – Wie viele andere Materialien auch, weist Silizium an seiner Oberfläche ganz besondere Eigenschaften auf. Sie gewinnen umso mehr an Bedeutung, je kleiner der Körper wird. Denn die Oberfläche wird dann im Verhältnis zum Gesamtvolumen immer größer. Aus diesem Grund rücken die speziellen Eigenschaften der Oberfläche insbesondere in der Nano- und Halbleitertechnologie in den Fokus, bei denen der Trend zu immer kleineren Elektronikbauteilen führt.
„Bisher hat man Oberflächenstrukturen im Nanobereich in erster Linie nur abgebildet. Aber ich bin fest überzeugt davon, dass es in Zukunft immer wichtiger wird, nicht nur die Struktur, sondern auch die elektronischen Eigenschaften der Oberfläche zu erfassen“, betont Bert Voigtländer, Professor am Jülicher Peter Grünberg Institut (PGI-3).
Doch die Messung der grundlegenden elektronischen Oberflächeneigenschaft, der Oberflächenleitfähigkeit, ist alles andere als einfach. Bislang war es kaum möglich, den gemessenen elektrischen Strom, der über die Oberfläche fließt, sauber vom Stromfluss durch das Innere des Materials zu trennen. Entsprechend stark streuten die Messergebnisse in den letzten 20 Jahren. Die ermittelten Werte für die sogenannte (7×7)-Oberfläche von Silizium wichen um bis zu vier Größenordnungen voneinander ab.
Oberflächenleitfähigkeit von 9 Mikrosiemens für Silizium ermittelt
Bei dieser vielfach wissenschaftlich untersuchten Oberflächenstruktur ordnen sich die Atome am Rand des Siliziumkristalls aufgrund der nach außen hin abgeschnittenen Bindungen in einem Muster aus dreieckigen Zellen an. Mithilfe eines neuen Instruments konnten die Jülicher Wissenschaftler nun mit bislang unerreichter Genauigkeit messen, dass die Leitfähigkeit dieser Schicht etwa tausendmal höher ist als die einer entsprechenden Schicht im Innern des Siliziumkristalls. Die von ihnen ermittelte Oberflächenleitfähigkeit von 9 Mikrosiemens liegt in etwa in der Mitte zwischen typischen Werten für Halbleiter und Metalle. Das Ergebnis deutet in die gleiche Richtung wie die letzten Ergebnisse, die Forschungsgruppen in den Jahren 2009 und 2014 veröffentlicht hatten.
Inhalt des Artikels:
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